مادة طلاء PVD
-
![هدف رش البورون (ب)]()
هدف رش البورون (ب)إن هدف رش البورون له نفس خصائص البورون. البورون هو عنصر كيميائي نشأ من كلمة "براق" العربية، والتي كانت اسم البوراكس. "B" هو الرمز الكيميائي التقليدي للبورون. تحتل وفرة البورون المرتبة الثالثة في...أكثر -
![هدف رش أكسيد الألومنيوم والزنك (AZO)]()
هدف رش أكسيد الألومنيوم والزنك (AZO)الهدف AZO، الاسم الكامل لهدف أكسيد الزنك والألمنيوم، هو مادة شبه موصلة مشوبة بشكل خاص. على وجه التحديد، إنها مادة مركبة تتكون من أكسيد الزنك (ZnO) والألمنيوم (Al)، والتي يتم التعبير عنها عادةً...أكثر -
![هدف رش تيتانات الباريوم (BaTiO3)]()
هدف رش تيتانات الباريوم (BaTiO3)تيتانات الباريوم عبارة عن مادة صلبة بلورية تستخدم في التطبيقات البصرية الإلكترونية وكمادة سيراميكية عازلة في المكثفات بقيمة ثابتة عازلة تصل إلى 7،000. تتميز تيتانات الباريوم متعددة البلورات بمعامل...أكثر -
![هدف رش نتريد البورون (BN)]()
هدف رش نتريد البورون (BN)نتريد البورون (BN) عبارة عن بلورة مكونة من ذرات النيتروجين وذرات البورون. عادة ما يكون لونه أسود أو بني أو أحمر غامق. له بنية سفاليريت، وموصلية حرارية جيدة، وصلابته تأتي في المرتبة الثانية بعد...أكثر -
![هدف الرش باستخدام كربيد البورون (B4C)]()
هدف الرش باستخدام كربيد البورون (B4C)كربيد البورون: تم اكتشافه في القرن التاسع عشر كمنتج ثانوي لأبحاث البوريد المعدني ولم تتم دراسته علميًا حتى ثلاثينيات القرن التاسع عشر. وهو خامس أصعب مادة معروفة بعد نتريد البورون والماس ومركبات...أكثر -
![هدف رش أكسيد السيريوم (CeO2)]()
هدف رش أكسيد السيريوم (CeO2)أكسيد السيريوم هو مادة غير عضوية لها الصيغة الكيميائية CeO2، مسحوق أصفر فاتح أو بني مصفر. كثافته 7.13 جم/سم3، نقطة انصهاره 2397 درجة، غير قابل للذوبان في الماء والقلويات، قابل للذوبان قليلاً في...أكثر -
![هدف رش أكسيد الهافنيوم (HfO2)]()
هدف رش أكسيد الهافنيوم (HfO2)الزركونيا (ZrO2)، والمعروفة أيضًا باسم ثاني أكسيد الزركونيوم، هي مادة سيراميك عالية الأداء ومهمة للغاية. نظرًا لنقطة انصهارها العالية وقوتها العالية في الانحناء واستقرارها الكيميائي، فهي تستخدم...أكثر -
![هدف رش أكسيد الإنديوم (In2O3)]()
هدف رش أكسيد الإنديوم (In2O3)أكسيد الإنديوم هو أكسيد له الصيغة الجزيئية In2O3. المنتج النقي عبارة عن مسحوق غير متبلور أبيض أو أصفر فاتح، يتحول إلى اللون البني المحمر عند تسخينه. أكسيد الإنديوم هو مادة شبه موصلة شفافة جديدة من...أكثر -
![هدف رش أكسيد الإنديوم والقصدير (ITO)]()
هدف رش أكسيد الإنديوم والقصدير (ITO)مادة هدف ITO، أكسيد القصدير الإنديوم، هي مادة موصلة شفافة مهمة. في مجال تحضير الأغشية الرقيقة، تُستخدم أهداف ITO على نطاق واسع كمادة خام أساسية في الأجهزة الإلكترونية والبصرية الإلكترونية. يمكنها...أكثر -
![هدف رش أكسيد السيليكون (SiO2)]()
هدف رش أكسيد السيليكون (SiO2)لقد حظي ثاني أكسيد السيليكون، باعتباره مادة مستخدمة على نطاق واسع في التكنولوجيا الحديثة، باهتمام واسع النطاق بسبب خصائصه الفيزيائية والكيميائية الممتازة. وخاصة في تكنولوجيا الرش المغناطيسي، فإن...أكثر -
![هدف رش أكسيد الإنديوم والغاليوم والزنك (IGZO)]()
هدف رش أكسيد الإنديوم والغاليوم والزنك (IGZO)نقوم بمعالجة أهداف الرشح من أكسيد الإنديوم والغاليوم والزنك (IGZO) بجودة عالية وبأسعار تنافسية. هدف الرشح من أكسيد الإنديوم والغاليوم والزنك (IGZO)، واسمه الكامل هو هدف أكسيد الإنديوم والغاليوم...أكثر -
![هدف رش نتريد السيليكون (Si3N4)]()
هدف رش نتريد السيليكون (Si3N4)هدف الرش بالنتريد السليكوني هو نوع من أهداف الرش بالنتريد السيراميكي. Si3N4 عبارة عن مادة سيراميكية ذات نقطة انصهار عالية وهي شديدة الصلابة وخاملة كيميائيًا نسبيًا. يتم تحضير Si3N4 عن طريق تسخين...أكثر
نحن موردون محترفون لمواد طلاء PVD في الصين، متخصصون في تقديم خدمة مخصصة عالية الجودة. نرحب بك بحرارة لشراء مواد طلاء PVD المخفضة المتوفرة في المخزون هنا والحصول على عينة مجانية من مصنعنا. للحصول على استشارة سعر، اتصل بنا.