مادة طلاء PVD

• هدف الرش 4N ZrO2 مع لوح خلفي من النحاس

  يتم تصنيع أهداف رش ثاني أكسيد الزركونيوم المزودة بألواح داعمة باستخدام مادة ثاني أكسيد الزركونيوم عالية النقاء-، ويتم ربطها بشكل آمن بلوحة دعم معدنية؛ ويضمن هذا التصميم تبديدًا سريعًا للحرارة...

  أكثر
• هدف رش ZrC مع لوح خلفي من النحاس

  تتميز أهداف الرش من كربيد الزركونيوم (ZrC) المزودة بألواح دعم نحاسية بوجود رابطة قوية بين مادة هدف ZrC عالية النقاء- والركيزة النحاسية. يضمن هذا التصميم توصيلًا حراريًا وكهربائيًا ممتازًا، مما...

  أكثر
• تا 5at% مخدر زرك الاخرق الهدف

  يؤدي التطعيم الدقيق لكربيد الزركونيوم بنسبة 5 ذرية في المائة من التنتالوم إلى تعزيز مقاومة درجات الحرارة العالية للمادة المستهدفة-، ومقاومة الصدمات الحرارية، ومقاومة التآكل. تتميز بالنقاء العالي...

  أكثر
• 4N IGZO الاخرق الهدف

  توفر أهداف الرش 4N IGZO الخاصة بنا أداء رش أكثر استقرارًا وفعالية. وهي مخصصة -لشاشات العرض المتطورة وتطبيقات أشباه الموصلات، كما أنها تسهل تحقيق حركة الإلكترون الفائقة ووضوح التصوير.

  أكثر
• هدف 4N HfO2 مع لوح خلفي من النحاس

  يستخدم هدف الرش 4N HfO₂ المدعم بالنحاس مادة أكسيد الهافنيوم النقي بنسبة 99.99%. مدمج بظهر نحاسي، فهو يوفر توصيلًا حراريًا ممتازًا ومناسبًا بشكل مثالي للطلاء البصري، وتصنيع أشباه الموصلات، وعمليات...

  أكثر
• 4N HfO2 مخدر بنسبة 2% Ti

  يتم تصنيع هدف الرش المشوب بـ 2% Ti- من HfO₂ باستخدام ركيزة من أكسيد الهافنيوم -عالية النقاء، ومطعمة بدقة بنسبة 2% من التيتانيوم. يتميز بتوحيد تركيبه وكثافته العالية، وهو مناسب بشكل مثالي للتطبيقات...

  أكثر
• 4N HfO2 الاخرق الهدف

  هدف رش ثاني أكسيد الهافنيوم عالي النقاء 4N (نقاوة 99.99%) - مناسب للتطبيقات في الطلاءات البصرية وأشباه الموصلات والإلكترونيات الدقيقة. تتميز بكثافة عالية، وتركيبة موحدة، وأداء رش مستقر.

  أكثر
• هدف رش الكربون 4N القابل للتخصيص

  يتم تصنيع أهداف رش الكربون 4N عالية-النقاء لدينا من مادة كربون نقية بنسبة 99.99%، وتتميز بمستويات شوائب منخفضة مما يجعلها مثالية للتطبيقات في أشباه الموصلات والأغشية الرقيقة البصرية وطلاءات البحث...

  أكثر
• هدف الاخرق B4C

  باستخدام مواد خام كربيد البورون -عالية النقاء، يتميز هذا المنتج بصلابة استثنائية وثبات حراري قوي، مما يجعله مثاليًا للتطبيقات في تصنيع أشباه الموصلات، والطلاءات البصرية، وتصنيع الأغشية المقاومة...

  أكثر
• أهداف رش البورون المخصصة

  نحن نوفر أهدافًا عالية-من البورون كثيفة وعالية النقاء ومناسبة تمامًا لعمليات أشباه الموصلات والطلاء. نحن ندعم التصنيع المخصص بناءً على الرسومات الفنية، ونتحكم بشكل صارم في مستويات الشوائب لضمان...

  أكثر
• هدف التنغستن المستدير 3N5 المخصص

  نحن نقدم-أهدافًا دائرية مصنوعة خصيصًا من التنجستين بدرجة نقاء 3N5 (99.95%). يتم تصنيعها باستخدام تعدين المساحيق، وتتميز ببنية مجهرية موحدة، وكثافة عالية، وخالية من المسامية والشوائب. إنها مناسبة...

  أكثر
• تخصيص هدف الاخرق عالية النقاء Hf

  نحن نقدم أهدافًا مخصصة-عالية النقاء-لرش الهافنيوم بدرجة نقاء تتجاوز 99.9%، وتتميز بكثافة موحدة وبنية مجهرية دقيقة. تم تصميمها خصيصًا لرقائق أشباه الموصلات، والطلاءات البصرية، وتطبيقات الفضاء...

  أكثر