مادة طلاء PVD

• تخصيص 3N5 قضيب الهافنيوم

  3N5-قضبان الهافنيوم عالية النقاء، نقاء 99.95%، جودة من الدرجة النووية-! إنه مقاوم لدرجات الحرارة العالية-والتآكل الشديد، وهو الخيار الأول للمفاعلات النووية، ومحركات الفضاء الجوي، وأهداف أشباه...

  أكثر
• هدف كربون 4N مع لوح خلفي من النحاس

  هدف رش الكربون عالي النقاء 4N مع لوح خلفي نحاسي، نقاء 99.99%، يضمن رشًا أكثر استقرارًا! توفر اللوحة الخلفية النحاسية توصيلًا حراريًا سريعًا وتبديدًا قويًا للحرارة، مما يمنع تشقق الهدف وينتج عنه...

  أكثر
• هدف قصدير 3N مخصص

  -هدف رش القصدير عالي النقاء 3N + لوح خلفي نحاسي مخصص يضاعف كفاءة الرش! يمنع الترابط السلس الانفصال، مما يؤدي إلى الحصول على أفلام موحدة وخالية من الشوائب- - الخيار الأفضل لطبقات أشباه الموصلات...

  أكثر
• جزيئات HfC مخصصة

  وصف جسيمات HfC المخصصة يتم تصنيع جزيئات HfC عادةً عن طريق تفاعل ثاني أكسيد الهافنيوم (HfO₂) مع الكربون عند درجات حرارة عالية (1900-2300 درجة) في جو خامل أو مخفض. يكمن جوهر تخصيص جزيئات كربيد...

  أكثر
• هدف الهافنيوم مستطيل الشكل 3N5 قابل للتخصيص

  3N5-هدف الهافنيوم عالي النقاء، نقاء 99.95%، أبعاد مستطيلة مخصصة دقيقة للميكرومتر! الخيار الأول لطلاء أشباه الموصلات والطلاء البصري، مما ينتج عنه طبقة كثيفة وخالية من الجسيمات- مع التصاق فائق....

  أكثر
• 3N Pb1.1(Zr0.51Ti0.48Mn0.01)O3 الهدف

  وصف 3N Pb1.1(Zr0.51Ti0.48Mn0.01)O3 الهدف Pb1.1(Zr0.51Ti0.48Mn0.01)O3 عبارة عن هدف رذاذ قائم على تيتانات زركونات الرصاص (PZT)- مُطعم خصيصًا. صيغته الكيميائية الأساسية هي...

  أكثر
• 4N ملغ المغنيسيوم الاخرق الهدف

  أهداف الرش بالمغنيسيوم 4N هي مواد رش معدنية عالية النقاء بدرجة نقاء أكبر من أو تساوي 99.99%. إنها تتميز بحبيبات دقيقة وتركيبة موحدة، مما يجعلها مناسبة لأشباه الموصلات، والطلاء البصري، وإعداد...

  أكثر
• هدف رش الهافنيوم عالي التردد بنسبة 99.95%

  هدف رش الهافنيوم عالي النقاء بنسبة 99.95% -، هدف معدني عالي التردد - في الفضاء الجوي، حجم مخصص، لوحة دعم من النحاس المستعبد، تستخدم للأغشية الرقيقة لأشباه الموصلات، والطلاءات البصرية، والطلاءات...

  أكثر
• هدف أنبوب الزركونيوم

  أهداف أنابيب الزركونيوم عبارة عن أنابيب رقيقة-من الزركونيوم عالية النقاء-والتي تتميز بمقاومتها للتآكل-والمقاومة لدرجات الحرارة العالية-، مما ينتج عنه طبقة كثيفة وموحدة أثناء الرش. ويتم استخدامها...

  أكثر
• ZRTI الهدف الدماغ

  يتم استخدام هدف ZRTI للتفطر بشكل رئيسي في صناعة المعلومات الإلكترونية ، وحقل الطلاء الزجاجي ، والمواد المقاومة للتآكل عالية الحرارة ، والمنتجات الزخرفية الراقية ، وصناعة الشاشة اللمس ، والصناعة...

  أكثر
• أهداف Zrti Sputter

  تعد أهداف Sputter ZRTI واحدة من أهداف التلاوي المعدنية الشائعة الاستخدام ، والتي يمكن تقسيمها إلى أهداف مستوية ، والأهداف الرش والأهداف الدوارة ، وما إلى ذلك ، وتلعب دورًا مهمًا في صناعة الفراغ...

  أكثر
• الزركونيوم التيتانيوم zrti الهدف

  يتم استخدام هدف Zirconium Titanium Zrti Sputtering على نطاق واسع في طلاء الفراغ الأيوني متعدد القوس أو PVD المغنطيسي في الصناعة ، ويمكن استخدامه كمواد مقاومة للارتداء أو الطلاءات الزخرفية أو...

  أكثر